乾式{0}タイプのスプレー ブースは、ろ過ベースの粉塵および微粒子除去装置の一種です。{1}これらは、遮断、衝突、吸収などのメカニズムを通じてペイントミストを捕捉および浄化し、粒子を濾過媒体内に捕捉することによって機能します。
ドライ スプレー ブースの各濾過チャンバー内では、開口部の配置によってベンチュリまたはサイクロン効果が生じ、塗料粒子がチャンバーの底に沈降すると同時に、空気流が開口部から排出されます。この高い分離効率はベンチュリ効果に由来しています。コーティング材の特性によっては、分離率が 96% に達する場合もあります。繊維状フィルター媒体が最も微細なオーバースプレー粒子も効果的に捕捉するため、厚く粘性のあるコーティングを施しても、表面の目詰まりはほとんど発生しません。